光纤绕丝单靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪是一种用于制备薄膜的设备。它可以在基板表面形成均匀、致密、薄且具有特定性质的膜层
单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪 参考价：面议
单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪，专用于光纤制备薄膜,采用不锈钢高真空腔体，配有带挡板的观察窗，可以观察镀膜过程，挡板则能有效防止观察窗被膜层遮蔽，便于实验的观察记录...
非导电薄膜等离子磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
非导电薄膜等离子磁控溅射镀膜仪是一款紧凑型2英寸单头射频等离子磁控溅射系统，涂有非金属，主要是氧化物薄膜。非导电薄膜等离子磁控溅射镀膜仪将所有元件集成到一层立式...
三靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频) 参考价：面议
三靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)可选配直流电源，和射频电源，功率从500W-1...
三靶磁控溅射镀膜仪(直流) 参考价：面议
三靶磁控溅射镀膜仪(直流)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪(直流)可选配直流电源功率从500W-1000W不等。
三靶磁控溅射镀膜仪(射频) 参考价：面议
三靶磁控溅射镀膜仪(射频)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪(射频)可选配源功率从500W-1000W不等的射频电源。
双靶磁控溅射镀膜仪（双膜厚仪） 参考价：面议
双靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、?？榛?、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自...
双靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频) 参考价：面议
双靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)典型的高速低温溅射实验室专用镀膜仪，双靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)可选配直流电源和射频电源，功率从500W-1000W不等。
双靶磁控溅射镀膜仪(射频) 参考价：面议
双靶磁控溅射镀膜仪(射频)高速低温溅射实验室专用镀膜仪，双靶磁控溅射镀膜仪(射频)可选配功率从500W-1000W不等的射频电源。
双靶磁控溅射镀膜仪(直流) 参考价：面议
双靶磁控溅射镀膜仪(直流)高速低温溅射。双靶磁控溅射镀膜仪(直流)可选配功率从500W-1000W不等的直流电源。
单靶磁控溅射镀膜仪（射频） 参考价：面议
单靶磁控溅射镀膜仪（射频）我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。单靶磁控溅射镀膜仪（射频）可选配500W-1000W不等的射频电源。
单靶磁控溅射镀膜仪(直流) 参考价：面议
单靶磁控溅射镀膜仪(直流)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。单靶磁控溅射镀膜仪(直流)可选配功率从500W-1000W的直流电源。
小型单靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选...
真空磁控溅射镀膜系统 参考价：面议
真空磁控溅射镀膜系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（三个靶）、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。真...
可程控磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
可程控磁控溅射镀膜仪为单腔室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、离子轰击、公转基片台、光加热系统、溅射电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及...
高真空磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
高真空磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。高真空磁控溅射镀膜仪广泛应用于...
单室磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
单室磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。单室磁控溅射镀膜仪可广泛应用于大专院...
CY-in-line磁控溅射系统 参考价：面议
CY-in-line磁控溅射系统主要由进样室、溅射室、出样室、基片传递机构、抽气及真空测量系统、气路系统、电控系统、安装机台等部分组成。此外,CY-in-lin...
桌面型不锈钢腔体双靶磁控镀膜仪 参考价：面议
双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
?桌面型双靶直流磁控镀膜仪 参考价：面议
?桌面型双靶直流磁控镀膜仪可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，尤其是实验室SEM样品制备，?桌面型双靶直流磁控镀膜仪采用旋转...
双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型) 参考价：面议
双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)采用靶下置样品台在上方的布局。双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)两个靶位，直流射频双电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜...
带偏压双靶磁控镀膜仪 参考价：面议
双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。...
分体式单靶磁控镀膜仪 参考价：面议
本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。
双靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。...
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